上海微电子在进博会发布新一代干式光刻机

第九届中国国际进口博览会11月5日至10日在上海举行。11月6日，上海微电子装备集团携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机模型亮相进博会中国馆，展出的是SSC800与SSB800两款设备的模型。上海微电子表示，这次展出的模型采用透明剖视设计，直观呈现整机光学光路与内部机电系统的链路布局，展示了中国前道光刻装备自主化的阶段性成果。据介绍，目前国产前道干式光刻机的成像性能已与国际同类领先产品水平相当，套刻精度与生产效率正在紧密追赶国际标杆。

光刻机是芯片制造过程中最关键的设备之一，负责把电路图案转移到晶圆上。长期以来，高端光刻装备的供给掌握在少数外国企业手中，国产化一直是中国半导体产业的重要课题。上海微电子这次展出的两款设备模型，分别采用KrF与I线两类技术路线，面向110纳米及以上与280纳米及以上制程。相关报道称，在售的SSC800系列与SSB800系列机型关键零部件国产化率已突破百分之九十，并已实现定型与规模化量产。

事件经过

11月5日，第九届中国国际进口博览会在上海开幕，展期至11月10日。本届进博会中国馆集中展示了一系列重磅科技成果，上海微电子装备集团展出的新一代前道干式光刻机模型是其中之一。11月6日，上海微电子装备集团在进博会中国馆展出自主研发的SSC800、SSB800两款前道干式扫描投影光刻机模型，相关报道于11月8日至9日陆续刊出。

上海微电子通过微信公众号发文介绍，本次展出的模型采用透明剖视设计，直观呈现整机光学光路与内部机电系统的链路布局。该平台为国产标准化前道光刻装备架构，适配I线与KrF两类主流技术路线。整机核心的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统，均实现全链条自主可控，具备稳定的工艺适配能力与产线运行可靠性。

从技术路线看，SSB800系列采用I线光刻技术，面向280纳米及以上成熟制程，主要应用于功率半导体、模拟集成电路和微机电系统等产品的制造。SSC800系列采用KrF光刻技术，面向110纳米及以上制程，重点提升曝光精度、畸变控制及套刻性能，适用于对图形尺寸和加工精度要求较高的半导体制造环节。两款设备覆盖的制程范围不同，分工也各有侧重。

需要说明的是，这次在进博会展出的是设备模型，而不是设备实物。模型的作用是展示整机的结构布局与技术平台，真正的设备已经在国内的芯片生产线上运行。据介绍，已有多台前道干式光刻设备在国内逻辑芯片及存储芯片制造企业的量产线上稳定运行，累计支持晶圆流片超过1000万片，设备有效运行率超过百分之九十二。这一数据来自企业方面的介绍，以官方公布为准。

各方反应

上海微电子方面表示，本次展出的平台为国产标准化前道光刻装备架构，关键零部件国产化率突破百分之九十，已实现定型与规模化量产，填补了国内空白。企业方面还称，在售的SSC800系列KrF与SSB800系列I线机型，基于自研双工件台平台，均搭载国产自主大数值孔径物镜，关键曝光成像指标对标国际标杆，SSC800整体性能跻身行业第一梯队。

媒体报道在转述企业介绍时指出，目前国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当，套刻精度、生产效率紧密追赶国际标杆。上海证券报的相关报道是这次展出的主要信源之一，多家媒体在11月8日至9日转载了相关内容。报道中使用的“水平相当”与“紧密追赶”等表述，均来自企业方面的介绍，具体技术指标以企业与官方公布为准。

从行业角度看，前道干式光刻机是成熟制程芯片制造的核心装备之一。功率半导体、模拟芯片与微机电系统等产品，广泛应用于汽车、工业控制、消费电子等领域，对110纳米及以上与280纳米及以上制程的需求长期存在。国产设备在这一领域实现规模化量产，意味着国内芯片制造企业在成熟制程装备供给上有了更多的选择。

值得注意的是，干式光刻机与浸没式光刻机属于不同的技术路线。这次展出的SSC800与SSB800均为干式设备，面向的是成熟制程市场，而不是最先进制程。企业方面没有在这次展出中公布面向更先进制程的设备信息，相关进展以今后官方公布为准。读者在理解这次展出时，需要注意设备面向的制程范围，避免把成熟制程设备的进展误解为先进制程的突破。

背景与影响

上海微电子装备集团成立于2002年，是国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商，也是中国前道光刻装备自主供给体系的核心支撑主体。企业的业务覆盖核心光刻装备的设计研发、生产制造、市场销售与全流程技术服务。经过二十多年的发展，企业已在投影光学、运动控制、工件台及对准调平等核心系统开展自主研发，形成了全栈自主可控的技术底座。

半导体设备国产化是中国半导体产业长期推进的方向。光刻机作为芯片制造中最复杂、精度要求最高的设备之一，其国产化难度尤其大。长期以来，国内芯片制造企业在光刻装备上主要依赖进口，设备供给受到外部因素的影响较大。上海微电子的设备实现规模化量产并进入国内量产线，标志着国产前道干式光刻装备已经从研发阶段走到了产业化应用阶段。

从应用情况看，已有多台设备在国内逻辑芯片及存储芯片制造企业的量产线上稳定运行，累计支持晶圆流片超过1000万片，设备有效运行率超过百分之九十二。这组数据如果属实，说明国产设备不仅已经交付，而且在实际生产环境中经受住了考验。设备在量产线上的稳定运行，是衡量光刻装备成熟度的重要标准，比单纯的实验室指标更有说服力。

从进博会这个平台看，中国馆集中展示国产科技成果，是进博会近年来的一项重要内容。上海微电子选择在进博会展出新一代光刻机模型，既是向国内外展示国产装备的进展，也是向产业链上下游传递信心。后续值得关注的是，SSC800与SSB800系列设备的量产规模是否会进一步扩大，以及企业是否会在更先进制程的设备上取得新的进展。这些问题目前还没有答案，以今后官方公布为准。

从芯片制造流程看，光刻是把电路图案转移到晶圆上的关键步骤，曝光精度与套刻精度直接决定了芯片的良率与性能。前道光刻机负责的是晶圆制造前端的曝光环节，与后端封装测试设备属于不同的工序。干式光刻机通过空气介质进行曝光，适用于成熟制程，而更先进的制程还需要用到浸没式光刻机等设备。上海微电子这次展出的两款干式设备，面向的是成熟制程市场，这一市场的需求规模庞大，应用场景也十分广泛。

从进博会这个平台看，中国馆集中展示国产科技成果，是进博会近年来的一项重要内容。本届进博会于11月5日至10日在上海举行，展期共六天，期间展出了多项重磅科技成果。上海微电子选择在进博会展出新一代光刻机模型，既是向国内外展示国产装备的进展，也是向产业链上下游传递信心。对参观者来说，透明剖视设计的模型提供了一个直观了解光刻机内部结构的机会，这在平时是很难见到的。

权威一手来源

本文核心事实来自上海微电子装备集团通过微信公众号发布的介绍，以及上海证券报的相关报道。中国青年网、新浪科技等多家媒体11月8日至9日转载了相关内容。关于两款设备的技术路线、面向制程与应用领域的情况，参考了上海微电子方面的介绍与相关报道。关于设备量产运行与流片数量的数据，来自企业方面的介绍，以官方公布为准。关于上海微电子成立时间与行业地位的情况，参考了企业方面的公开介绍。

本文信息核验于2026年11月9日。

免责声明

本文内容基于公开报道与企业发布信息整理，仅供读者了解新闻事件使用，不构成任何投资、采购或技术选型建议。文中涉及的技术指标、量产数据与后续进展，以上海微电子装备集团与相关机构的官方公布为准。如后续出现新的官方消息，请以最新公布为准。

更多美国华人生活资讯，请关注微信公众号：UUUMGT。